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上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 100

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品牌: KRI
单价: 面议
起订: 1 台
供货总量: 100 台
发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
所在地: 上海
有效期至: 长期有效
最后更新: 2022-06-21 10:59
浏览次数: 4
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产品详细说明
 价格货期电议

上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯丝和自对准栅极, 标准配置下离子能量范围 100 1200ev, 离子电流可以超过 400 mA.

 

KRI 考夫曼离子源 KDC 100 技术参数:

型号

KDC 100

供电

DC magnetic confinement

 - 阴极灯丝

2

 - 阳极电压

0-100V DC

电子束

OptiBeam™

 - 栅极

专用, 自对准

 -栅极直径

12 cm

中和器

灯丝

电源控制

KSC 1212

配置

-

 - 阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

 - 安装

移动或快速法兰

 - 高度

9.25'

 - 直径

7.6'

 - 离子束

聚焦

平行

散设

 -加工材料

金属

电介质

半导体

 -工艺气体

惰性

活性

混合

 -安装距离

8-36”

 - 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架

 

KRI 考夫曼离子源 KDC 100 应用领域:

溅镀和蒸发镀膜 PC

辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

表面改性, 激活 SM

离子溅射沉积和多层结构 IBSD

离子蚀刻 IBE

1978 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论请联络上海伯东邓女士分机134


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