客服:点击这里给我发消息 点击这里给我发消息
 
 
发布信息当前位置: 首页 » 供应信息 » 其它行业 » 其它 »

上海伯东 KRI 霍尔离子源 eH 3000

点击图片查看原图
品牌: KRI
单价: 面议
起订: 1 台
供货总量: 100 台
发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
所在地: 上海
有效期至: 长期有效
最后更新: 2022-06-21 10:59
浏览次数: 21
询价
公司基本资料信息
 
 
产品详细说明
 价格货期电议

上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 最适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上最高效, 提供最高离子束流的离子源.

尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6”

放电电压 / 电流: 50-300V / 20A

操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

 

KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性

• 水冷 - 加速冷却

• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极

• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率

• 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便

• 高效的等离子转换和稳定的功率控制

 

KRI 霍尔离子源 eH 3000 技术参数:

型号

eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE

供电

DC magnetic confinement

  - 电压

50-250V VDC

  - 离子源直径

~ 7 cm

  - 阳极结构

模块化

电源控制

eHx-25020A

配置

-

 - 阴极中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

 - 离子束发散角度

> 45° (hwhm)

  - 阳极

标准或 Grooved

 - 水冷

前板水冷

 - 底座

移动或快接法兰

 - 高度

4.0'

 - 直径

5.7'

 - 加工材料

金属

电介质

半导体

 - 工艺气体

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

 - 安装距离

16-45”

 - 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架;

 

 

KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域:

溅镀和蒸发镀膜 PC

辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD

表面改性, 激活 SM

直接沉积 DD

1978 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论请联络上海伯东邓女士分机134


0条 [查看全部]  相关评论
 
更多»本企业其它产品

[ 供应信息搜索 ]  [ 加入收藏 ]  [ 告诉好友 ]  [ 打印本文 ]  [ 关闭窗口 ]

 
分割线
工商执照 网警备案 安全网络 互联网诚信
(c)2005- 淄博宝润网络 All Rights Reserved | 备案许可证号:鲁ICP备15006069号-7
客户服务热线:业务咨询直线: 鲁公网安备 37030402000618号